机译:抛光引起的表面杂质缺陷对熔融石英光学元件抗激光损伤的影响以及用HF酸腐蚀去除
机译:抛光诱导的地下杂质缺陷对熔融二氧化硅光学激光损伤性的影响及其用HF酸蚀刻去除
机译:基于KOH的浅蚀刻,用于曝光地下损伤和熔融二氧化硅光学表面的激光损伤阻力
机译:用于激光诱导损伤阈值的磁流变精加工和HF蚀刻终端终端优化融合阈值高效改善熔融二氧化硅
机译:用于地下损伤测量的激光散射技术:系统开发,实验研究和理论分析
机译:离子束刻蚀对熔融石英纳米损伤前体演化的影响
机译:HF蚀刻技术测量熔融石英粉表面的亚表面损伤